LASERWORT 2019, 上海AML OAI研讨会将于2019年10月17日（周四）在上海博雅酒店举办。全程免费，提供休憩午餐。
该研讨会主要分为两个部分。第一部分为光刻技术，第二部分为AML晶圆键合技术。
Part one：光刻技术
（1）用于MEMS, LED/PSS，高级封装，半导体，显示器的高级光刻技术；
（2）用于RDL第一级面板级封装（PLP）市场的自动泛光新技术。
Part two：AML晶圆键合技术
（1）UHV键合
（2）MKS Astron，ICP源，HF源
（3）薄膜沉积
（4）机器人自动化晶圆处理
